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            講講真空鍍膜機化學上的薄膜均勻性概念

                   1、厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜機的真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內,也就是說對于薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。
                   2、化學組分上的均勻性: 就是說在薄膜中,化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果真空鍍膜機鍍膜過程不科學,那么實際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并不是想要的膜的化學成分,這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。
                   3、晶格有序度的均勻性: 這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術中的熱點問題。
            2023/01/29 13:05:04 349 次

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